Тел.: +7 812 6779634

Email:info@tecsyst.com

Что такое ALD?

 

      Атомно-слоевое осаждение (англ. Atomic Layer Deposition (ALD)) — это технология осаждения тонких плёнок, которая базируется на последовательных химических реакциях между паром и твёрдым телом и имеет свойство самоограничения. Большинство ALD-реакций используют два химических соединения, которые обычно называют прекурсорами. Такие прекурсоры поочередно вступают в реакцию с поверхностью. В результате многократного влияния прекурсоров происходит рост тонкой плёнки.

       Процесс ALD является таким саморегулирующимся процессом (количество осаждённого материала в каждом цикле реакции является постоянным), в котором происходят последовательные химические реакции, в результате которых осаждается равномерная тонкая плёнка материала на подложке из разных материалов.     

       Процесс ALD похож на процесс химического осаждения из паровой фазы, кроме того, в процессе ALD химические реакции разделены на несколько отдельных реакций, в которых материалы прекурсоров реагируют с поверхностью подложки последовательно. В результате свойства к самоограничению поверхностных реакций ALD-процесс выращивания тонких плёнок делает возможным управление осаждением на атомарном уровне. Разделение прекурсоров осуществляется импульсами продувочного газа (как правило, азота или аргона) после каждого импульса прекурсора для удаления остатков прекурсора из реактора и предотвращения «паразитных» химических реакций на подложке.

 

Преимушествами процесса является:

 

  • возможность работы собразцами в достаточно низком диапазоне температур (в сравнении с класическим CVD)
  • высочайшая однородность пленок по поверхности
  • точный контроль толщины пленок по количеству циклов
  • работа с очень тонкими пленками в десятки ангстрем без эффекта островкового роста
  • работа с образцами сложной формы, не доступными для покрытия класическими PVD и CVD методами.

К минусам технологии можно отнести:

  • Достаточно долгое время осаждения, что делает работу с пленками в мкм проблематичной.
  • Необходимость хранения преруксоров для каждого материала пленок (в случае использования большого количества материалов пленок)
  • Ограниченный набор возможных для нанесения чистых металлов

      Наша компания рада предложить Вам полную линейку систем для нанесения тонких пленок методом ALD атомно-слоевого осаждения от компактных лабораторных для высокопроизводительных производственных решений.

     Для консультации и/или подбора оборудования опишите, пожалуйста, параметры процесса, осаждаемые материалы, толщины, требуемую однородность пленок, материал подложек, допустимые температурные режимы для ваших образцов, размеры и количество образцов в одну загрузку.

Имя  
Эл. почта  
Телефон  
Организация  
Сообщение  
Вложения